離子源
OIS-GL
OIS-GL是一種(zhong)用于基板清洗和離(li)子輔(fu)助(zhu)而開發的低電壓大(da)電流無柵網(wang)式離(li)子源。 配備于Gener-1300及(ji)OTFC系列鍍膜機，可生產各種(zhong)光(guang)學濾光(guang)片。
- 特征
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適用于基(ji)板清洗或塑料(liao)基(ji)板的(de)鍍(du)膜
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低能量、高電流，照射面積可(ke)達到φ 1200mm 以(yi)上
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設計的冷卻方式，大(da)大(da)提高了穩定性
- 規格
- 型號 OIS-GL
- 尺寸 φ163mm × 200mm (H)
- 放(fang)電(dian)電(dian)壓 50V - 300V
- 放(fang)電電流(max) 8A
- 氣體流量(liang) 5sccm - 50sccm（氬氣）10sccm - 100sccm（氬氣）
- 使用壓力 3.5 × 10-2 Pa 以下
- 水冷(leng)方式 Anode and beam unit
- 中和器(qi) Tungsten (W) filament
