關于RPD系列
RPD-1000 (ITO/AlN)
RPD系(xi)列是高性(xing)能LED膜（ITO/AlN）低成本生產可能的(de)反應性(xing)等(deng)離子源鍍膜機。
- 特征
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通過反應性等離子源同時實(shi)現成膜材料的(de)蒸發及(ji)活性化
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通過能量鍍(du)制高品質的結(jie)晶膜
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與常(chang)規(gui)蒸鍍(du)相較，實現低溫、低成(cheng)本量產
- 規格
- 真(zhen)空(kong)室 Ф1000mm×H 1165mm
- 基板架 Ф870 mm
- 基板架轉速 10～30rpm
- 晶振式膜厚計 6點式水晶傳感器
- 蒸發源(yuan) 反應性等離子源
- 性能
- 達到壓力(li) 1.0E-4 Pa 以下
- 排氣時間 20分以(yi)下（大氣(qi)壓～1.3×10-3 Pa以(yi)下）
- 工作條件
- 設備(bei)尺(chi)寸(cun) 約(yue)4000 mm (W) × 6000 mm (D)×2800 mm (H)
- 電源 3相(xiang)＋G,200V±5%, 約75KVA
- 水(shui)流量 80升/分以上(shang)
- 空氣壓力 0.5 MPa - 0.7 MPa
- 重量(liang) 約4000 kg
