關于Gener系列
Gener-1300
本裝置是為減反射光學(xue)薄膜的大批量生產而設計制作(zuo)的光學(xue)鍍(du)膜機(ji)。
- 特征
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采用了磁流體密封技術的中心旋轉式(shi)基板架(jia)，保證(zheng)了薄膜產品的重(zhong)復性與均勻性
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優化(hua)的排氣特性和升溫(wen)能(neng)力使鍍膜時間縮短(duan)
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可以加裝用(yong)于對應高精度AR鍍膜(mo)的多層膜(mo)用(yong)可靠的光(guang)控儀 (optional)
- 規格
- 真空(kong)室 SUS304,Ф1300mm×1500mm(H)
- 基板架 4片式(shi)工作架（或Ф1200 mm）
- 基(ji)板架轉速(su) 最大30rpm(可調(diao))
- 晶振式膜(mo)厚計 XTC/3+6點(dian)式水晶(jing)傳(chuan)感(gan)器
- 蒸發(fa)源 電子槍1臺
- 性能
- 極限真空 7.0 × 10-5 Pa 以下
- 抽氣(qi)速度(du) 10分（大氣壓～3.0×10-3Pa）
- 基板最高加熱溫度(du) 最高350℃
- 工作條件
- 安裝空間 約(yue)4500mm(W)×6000mm(D)×3200mm(H)
- 電(dian)力 3相，200V，50/60Hz，約80KVA
- 水流量 100升(sheng)/分(fen)以(yi)上(shang)
- 壓縮空氣(qi)壓力 0.5-0.7MPa
- 重(zhong)量 約(yue)5000kg
