關于SPUTTER系列

NSC-15型設備是可用于批量生產光學(xue)薄(bo)膜的(de)濺射(she)鍍膜機，采用金屬模式(shi)濺射(she)技(ji)術并搭載高反(fan)應性等離(li)子體源。 另配備了上下片搬送系統(tong)，可實現高產量的(de)生產。

特征
可(ke)裝(zhuang)載4種靶材
陰極可替換為其(qi)它部件
雙旋轉滾筒陰極可(ke)穩定放電
高反應等離子體源用(yong)于低(di)吸收(shou)膜
自動上下片基(ji)板搬送系統
規格
真空腔體(ti) 裝片室：304不銹鋼，寬500mm×深800 mm×高2890 mm
工藝室：304不銹鋼，直徑1650 mm×高1200 mm
基板夾具 可選(xuan)13 – 22片
旋轉滾(gun)筒系(xi)統： 直徑1500 mm, 滾筒式, 10 rpm - 100 rpm
反(fan)應源 ICP（電(dian)感耦合等離子體）
濺射源 雙旋轉陰(yin)極（可選(xuan)平面靶(ba)材）
真空系統(tong) 粗抽泵，分子泵
性能
極限(xian)壓力 裝片室：10Pa
工藝室：≤5.0 × 10-4?Pa
抽氣速率 裝片室：≤20 分鐘 (從大氣到 1.0×10-1?Pa)
工藝室：≤40分鐘(從大氣到5.0×10-3?Pa)
基板(ban)加熱溫度 可選150℃
工作條件
設(she)備尺寸(cun) 5800 mm (寬) × 7700 mm (深)×3200 mm (高)
電源(yuan) 3相, 380V ± 10％、130kVA、50/60Hz
水(shui)流量(liang) ≥180升/分鐘
空(kong)氣(qi)壓力 0.5 MPa - 0.7 MPa
重量 約13000 kg