關于SPUTTER系列

OWLS-1800是專(zhuan)用(yong)于“半(ban)導(dao)體光學器件”的金屬模式濺射系統，適用(yong)于12英寸的晶圓。該濺射系統可以擴展應(ying)用(yong)范(fan)圍（同時雙倍尺寸鍍(du)膜，低溫鍍(du)膜等）

特征
適(shi)用(yong)于多(duo)種(zhong)晶圓尺寸（12“，10”，8“，6”和4“）
真空晶圓搬運機械(xie)手快速清潔的(de)轉移系統
3個雙旋轉圓柱陰(yin)極
高(gao)反應性等(deng)離(li)子(zi)體源(yuan)實現低吸(xi)收膜(mo)
其他模塊(kuai)，例如光學(xue)厚(hou)度監控儀（可選）
適(shi)用(yong)于EFEM并符(fu)合SEMI標準
規格
真空腔體 裝片室：寬820mm×高1455 mm×深740 mm
運送室：寬1070×高480×深1070mm
工藝室：寬2540×高745×深2285mm
基板夾具(ju) 10片(pian)（最大12英寸）
基板旋轉滾筒(tong)系統 直徑1800 mm×高48 mm, 滾筒式, 10 rpm-100 rpm（可調）
反應源 ICP（電(dian)感耦(ou)合等離子體）
濺射(she)源 雙旋轉陰(yin)極（可選(xuan)平面(mian)靶材(cai)）
真空系(xi)統 粗抽泵，分子泵，冷(leng)阱
性能
極限壓力 裝片室：10Pa
工藝室：≤5.0 × 10-4?Pa
抽氣(qi)速率 裝片室，運送室：5分鐘 (從大氣到 10Pa)
工藝室：≤40分鐘(從大氣到5.0×10-3??Pa)
工作條件
設備尺寸 6500 mm (寬) × 6000 mm (深)×3400 mm (高)
電源(yuan) 3相+G, 380V±5％、125kVA、50/60Hz
水(shui)流量 ≥195升/分鐘
空(kong)氣壓(ya)力 0.5 MPa - 0.7 MPa
總重量 約13500 kg