關于SPUTTER系列

NSC-2350是用于光學(xue)薄膜的金屬式濺射設(she)備，尤其適用于大(da)面(mian)積(ji)基板的系統。 可用于移動終端設(she)備、汽車等大(da)面(mian)積(ji)面(mian)板的AR+AS膜。

特征
鍍膜面積(ji)：高1100mm×寬450 mm
6個陰極靶(ba)
用(yong)可(ke)選(xuan)組件更換陰極
高反應性等離子體(ti)源實現(xian)低吸(xi)收(shou)膜
自動上下片基板搬送(song)系統
通(tong)過(guo)優化(hua)沉(chen)積和搬(ban)送系統實現(xian)低顆粒薄膜
一個(ge)程(cheng)序可(ke)鍍AR/AS膜
規格
真空(kong)腔(qiang)體 裝片室：304不銹鋼，寬700mm×高1860 mm×深1760 mm
卸片室: 寬700×高1860×深1760mm
運送室: 寬660×高1860×深1760mm
工藝室：304不銹鋼，直徑2350 mm×高1950 mm
基(ji)板夾具 可(ke)選15– 22片(pian)
基板旋轉滾筒系統 直徑2245 mm, 滾筒(tong)式, 10rpm-50 rpm（可調）
反應源 ICP（電(dian)感耦合等離子體）
濺射(she)源 雙旋轉陰極（可(ke)選平面靶材）
真空系統 粗抽(chou)泵(beng)，分(fen)子泵(beng)，冷(leng)阱
性能
極(ji)限壓力 裝片室：10Pa
工藝室：≤2.0 × 10-4?Pa
抽氣速率 裝片室：≤8 分鐘 (從大氣到 10Pa)
工藝室：≤40分鐘(從大氣到9.0×10-4?Pa)
工作條件
設備尺寸 7000 mm (寬) × 6600 mm (深)×4000 mm (高(gao))
電源 3相+G, 380V±5％、300kVA、50/60Hz
水流量 ≥400升/分鐘(zhong)(水(shui)壓：0.6-0.7 Mpa)
壓縮空氣(qi) 0.5 MPa - 0.7 MPa
總重(zhong)重(zhong) 約30000 kg